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ISC150T 离子溅射仪（高真空）

ISC150T 离子溅射仪（高真空）

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一、产品介绍
    速普ISC150T 离子溅射仪采用进口品牌高性能旋片泵快速产生一个洁净的低于小于10-3 Pa的真空压强，通常抽真空时间小于5分钟。采用高品质恒功率磁控溅射电源，以确保恒定镀膜沉积速率。磁控阴极的使用也大幅度减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤。
    特别适用于追求高分辨率场发射FESEM扫描电镜样品的喷金、铂等以及其他金属镀膜用途。触摸屏自动控制，即插即用。

二、产品参数
泵组：进口品牌无油干泵+分子泵组 
抽速：>0.7 m3/h隔膜泵+60 L/S 分子泵
极限真空：<10E-3 Pa Pa
工作气压：0.5-2 Pa
抽真空时间：<5 Min
真空测量：测量范围大气压到10E-3 Pa，进口品牌真空计
气体控制：MFC气体质量流量控制器（50 SCCM Ar）
样品腔室尺寸：~Ø 150 *110 mm 耐划伤石英玻璃
磁控溅射靶：靶材尺寸 Ø 50 *0.1-2 mm （建议厚度>0.2 mm）/ 带手动挡板，可溅射贵金属Au/Pt等，也可溅射Cr、W、Ag、C等材料（通Ar气）
溅射电源：恒功率磁控DC溅射电源 Max. 30W ，Max. 100 mA 
溅射时间：可程序设定
操作方式：触摸屏控制
重量：~30 kg
尺寸：500 mm宽*400 mm深*470 mm高 
电源：100-220V AC，50/60Hz 接地三脚插头
功耗：<500 W
冷却方式：风冷
质量保证：一年免费/终身维护

备注：1、以上所列技术规格与参数更新恕不另行通知，如有疑问请联系我们；
2、山东奥仁仪器有限公司为深圳速普山东代理处。