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ISC150 离子溅射仪（低真空）

ISC150 离子溅射仪（低真空）

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一、产品介绍
    速普ISC150 离子溅射仪采用进口品牌高性能旋片泵快速产生一个小于1-2 Pa的真空压强，通常抽真空时间小于3-5分钟。采用高品质恒功率磁控溅射电源，以确保恒定镀膜沉积速率。磁控阴极的使用也大幅度减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤。
    特别适用于追求更高分辨率或温度敏感SEM 电镜样品的喷金、喷铂等贵金属镀膜用途。触摸屏控制，即插即用。

二、产品参数
泵组：美国 Welch真空旋片泵 
抽速：>2 m3/h
极限真空：<1 Pa
工作气压：4-10 Pa，可恒压控制
抽真空时间：<3-5 Min
真空规：德国Leybold 皮拉尼真空计
样品腔室尺寸：~Ø 150 *110 mm 耐划伤石英玻璃
磁控溅射靶：靶材尺寸 Ø 50 *0.1-2 mm （建议厚度>0.2 mm） 
溅射电源：恒功率磁控DC溅射电源 Max. 20W ，Max. 100 mA，0-800 V DC 
溅射时间：可程序设定
操作方式：触摸屏控制
重量：~20 kg
尺寸：~420 mm长 *300 mm深 *380 mm高 
电源：100-220V AC，50/60Hz 接地三脚插头
功耗：<500 W
冷却方式：风冷
质量保证：一年免费/终身维护
备注：1、以上所列技术规格与参数更新恕不另行通知，如有疑问请联系我们；
2、山东奥仁仪器有限公司为深圳速普山东代理处。